工藝流程預處理：通常包括砂濾、活性炭過濾、軟化等步驟，用于去除水中的大顆粒雜質、有機物和硬度離子，防止它們對反滲透膜造成堵塞或損壞。

• 一級反滲透：經過預處理的水進入一級反滲透裝置，在壓力作用下，水通過反滲透膜，鹽分、有機物等雜質被截留，產水電阻率一般在 0.05-0.5mΩ.cm，可滿足一些對水質要求相對較低的半導體生產環節需求 。
• 二級反滲透：一級反滲透的產水再經過二級反滲透進一步提純，能更有效地去除水中的殘留雜質，使產水水質更高，電阻率可達到更高水平，更接近半導體生產所需的超純水標準 。
• 后續處理：為了達到半導體行業對超純水的嚴格要求，二級反滲透后的水還可能經過 EDI（電去離子）裝置、離子交換樹脂、超濾、紫外燈殺菌等后續處理步驟，進一步去除水中的微量離子、有機物和微生物等 。